納米位移臺的線性誤差校準(zhǔn)是提高定位精度的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，通常結(jié)合 測量（干涉儀或光柵尺）和 閉環(huán)補(bǔ)償 來完成。下面整理常用方法與具體步驟：
1. 校準(zhǔn)原理
核心思路：測量臺面實(shí)際位移與理論位移的差值，構(gòu)建誤差補(bǔ)償表或函數(shù)，在控制系統(tǒng)中進(jìn)行補(bǔ)償。
校準(zhǔn)可分為 靜態(tài)校準(zhǔn)（慢速步進(jìn)）和 動態(tài)校準(zhǔn)（連續(xù)運(yùn)動）兩類。
2. 校準(zhǔn)方法
(1) 光學(xué)干涉法校準(zhǔn)
安裝干涉儀與位移臺平行，確保光束沿運(yùn)動方向。
臺面按規(guī)定步長移動（如 1 μm 或更?。?，干涉儀記錄實(shí)際位移。
將實(shí)際位移與理論位移比較，得到誤差曲線（誤差 = 實(shí)際 – 理論）。
將誤差曲線數(shù)據(jù)導(dǎo)入控制系統(tǒng)或軟件，用于生成 補(bǔ)償表。
(2) 光柵尺/編碼器反饋校準(zhǔn)
安裝高精度光柵尺沿位移方向。
控制臺面按步長移動，同時讀取光柵尺反饋值。
計(jì)算每步誤差，并繪制誤差曲線。
通過軟件建立補(bǔ)償函數(shù)或查表，實(shí)現(xiàn) 閉環(huán)補(bǔ)償。
(3) SEM/AFM 標(biāo)記測量法
在臺面或樣品上固定微納米標(biāo)記（刻線、納米顆粒）。
臺面移動，使用 SEM/AFM 測量標(biāo)記位移。
與理論位移對比，得到誤差曲線。
構(gòu)建誤差補(bǔ)償表，在控制系統(tǒng)中進(jìn)行校正。
3. 校準(zhǔn)步驟（通用流程）
準(zhǔn)備階段
清理位移臺，保證機(jī)械狀態(tài)良好。
環(huán)境控制：恒溫、低振動、低濕度。
安裝測量設(shè)備（干涉儀、光柵尺或 SEM/AFM 標(biāo)記）。
測量階段
選擇合適步長和行程范圍，進(jìn)行位移測量。
建立 實(shí)際位移 vs 理論位移 數(shù)據(jù)表。
可多次重復(fù)測量，取平均值，提高可靠性。
數(shù)據(jù)處理
計(jì)算誤差：誤差 = 實(shí)際位移 – 理論位移
繪制誤差曲線，分析誤差特性（線性、滯后、非線性段）。
誤差補(bǔ)償
根據(jù)誤差曲線建立 補(bǔ)償表或函數(shù)。
將補(bǔ)償數(shù)據(jù)導(dǎo)入控制系統(tǒng)或運(yùn)動軟件，實(shí)現(xiàn)閉環(huán)校正。
校準(zhǔn)后驗(yàn)證：重復(fù)測量，確認(rèn)誤差是否降低到目標(biāo)范圍（如 ±10 nm）。